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电子工业用气体 硅烷(SiH4)

Gas for electronic industry--Silane

  • 标准编号:GB/T 15909-2009
  • 标准状态:已作废
  • 发布时间:2009-10-30
  • 实施时间:2010-05-01
  • 代替情况:

    代替GB/T 15909-1995

  • 发布部门:

    中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会

  • 批准部门:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会

  • 主编部门:

    全国半导体设备和材料标准化技术委员会

  • 起草单位:

    浙江大学材化学院半导体材料研究所 西南化工研究设计院

  • 起草人:

    余京松 周鹏云

前言


本标准代替GB/T 15909---1995《电子工业用气体硅烷》。本标准与GB/T 15909-"1995相比主要变化如下:

-—修改规范性引用文件(GB/T 15909--1995的第2章,本版的第⒉章);

修改技术指标内容:增加一类产品纯度和杂质含量,用Cl表示氯化物总量(GB/T 15909--1995的3.1,本版的3.1);

——修改电性能规格(GB/T 15909—1995的3.2,本版的3.3);—增加硅烷的采样安全要求(见4.1.2);

-增加对硅烷尾气处理的要求(见4.3);

—-修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的测定(GB/T 15909—1995的4.2、4.6,本版的4.4);—-修改测定氯化物含量所用试剂和溶液的内容(GB/T 15909-1995的4.3.4,本版的4.5.4);—---修改测定氯化物含量结果处理公式(GB/T 15909—1995的4.3.6,本版的4.5.6);

—-增加其他方法测定氯化物含量(见4.5.7);

—修改经(C~Cs)含量的测定(GB/T 15909--1995的4.4,本版的4.6);-----增加其他方法测定氢含量(见4.7.6);

.--一-增加其他方法测定水含量(见4.8);

—--增加微量甲硅醚,乙硅烧和甲基硅烷含量的测定(见4.9);.--—增加金属离子含量的测定(见4.10);

.—修改标志﹑包装、贮运及安全(GB/T 15909--1995的第5章,本版的第5章)。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。

本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会归口。


目录


1 范围
2 规范性引用文件
3 技术要求
4 试验方法
5 标志、包装、贮运及安全
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